Marianto, Hery (2008) PENGARUH TIOUREA TERHADAP ELEKTROPLATING KROM(VI). Other thesis, Fakultas MIPA..
![[img]](http://repository.unand.ac.id/style/images/fileicons/other.png)
|
PDF (PENGARUH TIOUREA TERHADAP ELEKTROPLATING KROM(VI))
- Supplemental Material
Available under License Creative Commons Public Domain Dedication. Download (286Kb) | Preview |
Abstract
Konsentrasi larutan plating dan variasi kondisi operasi, yakni kuat arus, waktu plating dan penambahan aditif tiourea memberikan pengaruh terhadap elektroplating krom(Vl) pada logam tembaga. Dari hasil penelitian diperoleh komposisi larutan yang memberikan persentase pertambahan berat optimum adalah pada konsentrasi CrO3 40 g/L, H2SOa 0.4 g/L, CS(l.lH2)2 0.3 ppm, kuat arus 300 mA dan waktu plating 40 menit. Dari uji kekerasan yang dilakukan dengan alat Rockwell, diperoleh peningkatan kekerasan hasil plating dari 8.25 HRA menjadi 14.08 HRA.
| Item Type: | Thesis (Other) |
|---|---|
| Subjects: | Q Science > QD Chemistry |
| Unit atau Lembaga: | Fakultas MIPA > Kimia Paca Sarjana > Doktor > Fakultas MIPA > Kimia Fakultas MIPA > Kimia |
| Depositing User: | KREATIF zulka hendri |
| Date Deposited: | 17 Mar 2011 13:39 |
| Last Modified: | 04 Oct 2011 02:44 |
| URI: | http://repository.unand.ac.id/id/eprint/8335 |
Actions (login required)
 |
View Item |
