Repository Universitas Andalas

ELEKTROPLATING KROM(III) PADA TEMBAGA

Stiadi , Yeni and Emriadi, Emriadi and Adriany, Wiwi (2010) ELEKTROPLATING KROM(III) PADA TEMBAGA. Jurnal Kimia Andalas, 8 (2). ISSN 0853-8018

[img] PDF (ELEKTROPLATING KROM(III) PADA TEMBAGA) - Published Version
Available under License Creative Commons Public Domain Dedication.

Download (431Kb)
[img] Postscript (ELEKTROPLATING KROM(III) PADA TEMBAGA) - Published Version
Available under License Creative Commons Public Domain Dedication.

Download (4088Kb)

Abstract

Dalam penelitian ini kondisi optimum pelapisan krom(lll) pada tembaga dengan cara elektroplating didapatkan pada voltase 4,5 volt, waktu plating 60 menit dengan pengadukan larutan plating dengan komposisi H3BO3 0,15 M; HCOOH 0,1 M; CrCl3 0,1 M; KCI 0,35 M dan NaH2PO2 0,04 M. Penambahan konsentrasi hipofosfit dalam larutan akan menaikkan kekerasan dan penampilan hasil elektroplating krom. Kata kunci: krom(lll), elektroplating, hipofosfit

Item Type: Article
Subjects: Q Science > QD Chemistry
Unit atau Lembaga: Fakultas MIPA > Kimia
Paca Sarjana > Doktor > Fakultas MIPA > Kimia
Fakultas MIPA > Kimia
Depositing User: SSi Santi Ariningsih
Date Deposited: 05 Jul 2010 16:00
Last Modified: 21 Sep 2011 08:24
URI: http://repository.unand.ac.id/id/eprint/3623

Actions (login required)

View Item View Item