Stiadi , Yeni and Emriadi, Emriadi and Adriany, Wiwi (2010) ELEKTROPLATING KROM(III) PADA TEMBAGA. Jurnal Kimia Andalas, 8 (2). ISSN 0853-8018
![[img]](http://repository.unand.ac.id/style/images/fileicons/other.png) |
PDF (ELEKTROPLATING KROM(III) PADA TEMBAGA)
- Published Version
Available under License Creative Commons Public Domain Dedication. Download (431Kb) |
|
Postscript (ELEKTROPLATING KROM(III) PADA TEMBAGA)
- Published Version
Available under License Creative Commons Public Domain Dedication. Download (4088Kb) |
Abstract
Dalam penelitian ini kondisi optimum pelapisan krom(lll) pada tembaga dengan cara elektroplating didapatkan pada voltase 4,5 volt, waktu plating 60 menit dengan pengadukan larutan plating dengan komposisi H3BO3 0,15 M; HCOOH 0,1 M; CrCl3 0,1 M; KCI 0,35 M dan NaH2PO2 0,04 M. Penambahan konsentrasi hipofosfit dalam larutan akan menaikkan kekerasan dan penampilan hasil elektroplating krom. Kata kunci: krom(lll), elektroplating, hipofosfit
| Item Type: | Article |
|---|---|
| Subjects: | Q Science > QD Chemistry |
| Unit atau Lembaga: | Fakultas MIPA > Kimia Paca Sarjana > Doktor > Fakultas MIPA > Kimia Fakultas MIPA > Kimia |
| Depositing User: | SSi Santi Ariningsih |
| Date Deposited: | 05 Jul 2010 16:00 |
| Last Modified: | 21 Sep 2011 08:24 |
| URI: | http://repository.unand.ac.id/id/eprint/3623 |
Actions (login required)
 |
View Item |
