Stiadi, Yeni and Rahmayeni , Rahmayeni and Emeriadi, Emeriadi (2010) PENGARUH HIPOFOSFIT TERHADAP ELEKTROPLATING KROM (III). Working Paper. Fakultas MIPA. (Unpublished)
![[img]](http://repository.unand.ac.id/style/images/fileicons/other.png) |
Microsoft Word (PENGARUH HIPOFOSFIT TERHADAP ELEKTROPLATING KROM (III))
- Supplemental Material
Available under License Creative Commons Public Domain Dedication. Download (27Kb) |
Abstract
Dalam penelitian ini kondisi optimum pelapisan krom (III) terhadap baja dengan cara electroplating didapatkan pada voltase 4,5 volt, waktu plating 60 menit dengan pengadukan larutan dan larutan plating dengan komposisi H ³BO³ 0,15 M: HcooH 0,1 M; CrCl³ 0,1 M; KCI 0,35 M dan Na H²PO² 0,04 M. Adanya hiposfit dalam larutan plating akan meningkatkan jumlah deposit krom (III) pada permukaan baja. Penambahan konsentrasi hiposfit dalam laruatan akan menaikan kekerasan dan penampilan hasil electroplating krom
| Item Type: | Monograph (Working Paper) |
|---|---|
| Subjects: | Q Science > QC Physics |
| Unit atau Lembaga: | Fakultas MIPA > Fisika Paca Sarjana > Doktor > Fakultas MIPA > Fisika Fakultas MIPA > Fisika |
| Depositing User: | S.Si Fitria Ramona |
| Date Deposited: | 31 May 2010 09:52 |
| Last Modified: | 21 Sep 2011 04:35 |
| URI: | http://repository.unand.ac.id/id/eprint/1317 |
Actions (login required)
 |
View Item |
