Emriadi, Emriadi (2008) STUDI OPTIMASI PLATING NIR-ELEKTRIK TEMBAGA DENGAN MENGGUNAKAN HIPOFOSFIT DAN DIMETIL AMINA BORANA SEBAGAI ZAT REDUKTOR. Project Report. Universitas Andalas. (Unpublished)
![[img]](http://repository.unand.ac.id/style/images/fileicons/other.png)
|
PDF (STUDI OPTIMASI PLATING NIR-ELEKTRIK TEMBAGA DENGAN MENGGUNAKAN HIPOFOSFIT DAN DIMETIL AMINA BORANA SEBAGAI ZAT REDUKTOR)
- Supplemental Material
Available under License Creative Commons Public Domain Dedication. Download (328Kb) | Preview |
Abstract
Telah dilakukan penelitian tentang optimasi plating nir-elektrik tembaga dengan menggunakan hipofosfit dan dimetil amina borana sebagai reduktor. Pengukuran dilakukan dengan menentukan laju reaksi dengan cara gravimetri. Potensial campuran diukur selama proses plating terhadap elektroda kalomel jenuh. Permukaan substrat dan hasil pelapisan difoto dengan menggunakan mikroskop elektron scanning. Dari serangkaian percobaan diperoleh informasi tentang laju reaksi optimum, potensial campuran dan foto permukaan lapisan yang terbentuk. Terdapat hubungan linier antara laju deposisi dengan potensial campuran.
| Item Type: | Monograph (Project Report) |
|---|---|
| Subjects: | Q Science > QD Chemistry |
| Unit atau Lembaga: | Lembaga Penelitian Unand |
| Depositing User: | Haryoshi Utami |
| Date Deposited: | 17 Dec 2011 22:35 |
| Last Modified: | 17 Dec 2011 22:35 |
| URI: | http://repository.unand.ac.id/id/eprint/16704 |
Actions (login required)
 |
View Item |
